Strain and crystalline defects in epitaxial GaN layers studied by high-resolution X-ray diffraction
Veröffentlichungsdatum
2007-10-16
Autoren
Betreuer
Gutachter
Zusammenfassung
The scope of this thesis is to study the strain state, dislocation densities and other microstructuralfeatures of GaN-based layers grown by metalorganic vapor phase epitaxy(MOVPE) on (0001) sapphire and (0001) 6H-SiC substrates using x-ray techniques.
Schlagwörter
GaN
;
epilayers
;
strain
;
defects
;
x-ray diffraction
Institution
Fachbereich
Dokumenttyp
Dissertation
Zweitveröffentlichung
Nein
Sprache
Englisch
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Name
00011449.pdf
Size
5.45 MB
Format
Adobe PDF
Checksum
(MD5):53a7392e9b08c912a4ec58c9b0070728