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  4. Strain and crystalline defects in epitaxial GaN layers studied by high-resolution X-ray diffraction
 
Zitierlink URN
https://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:46-diss000114499

Strain and crystalline defects in epitaxial GaN layers studied by high-resolution X-ray diffraction

Veröffentlichungsdatum
2007-10-16
Autoren
Chierchia, Rosa  
Betreuer
Hommel, Detlef,  
Gutachter
Falta, Jens  
Zusammenfassung
The scope of this thesis is to study the strain state, dislocation densities and other microstructuralfeatures of GaN-based layers grown by metalorganic vapor phase epitaxy(MOVPE) on (0001) sapphire and (0001) 6H-SiC substrates using x-ray techniques.
Schlagwörter
GaN

; 

epilayers

; 

strain

; 

defects

; 

x-ray diffraction
Institution
Universität Bremen  
Fachbereich
Fachbereich 01: Physik/Elektrotechnik (FB 01)  
Dokumenttyp
Dissertation
Zweitveröffentlichung
Nein
Sprache
Englisch
Dateien
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Vorschaubild
Name

00011449.pdf

Size

5.45 MB

Format

Adobe PDF

Checksum

(MD5):53a7392e9b08c912a4ec58c9b0070728

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