Entwicklung eines Modells für die Schichtbildung von stark kohlenstoffhaltigen, siliziumorganischen Plasmapolymeren

Abstract

In der vorliegenden Arbeit geht es um die Erstellung eines Modells der Schichtabscheidung für Hexamethyldisiloxan basierte Plasmapolymere. Hierzu wurden umfangreiche Untersuchungen des Plasmaprozesses durchgeführt. Hierzu zählt sowohl eine elektrotechnische Untersuchung der verwendeten Niederdruckplasmakammer, als auch die Messung der Plasmadichte sowie des Plasmapotentials. Weiterhin wurden die abgeschiedenen Beschichtungen hinsichtlich ihrer chemischen Zusammensetzung sowie einiger physikalischer und technischer Eigenschaften untersucht.