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  4. Entwicklung eines Modells für die Schichtbildung von stark kohlenstoffhaltigen, siliziumorganischen Plasmapolymeren
 
Zitierlink DOI
10.26092/elib/1921

Entwicklung eines Modells für die Schichtbildung von stark kohlenstoffhaltigen, siliziumorganischen Plasmapolymeren

Veröffentlichungsdatum
2022-03-23
Autoren
Brenner, Thorben  
Betreuer
Vissing, Klaus  
Gutachter
Kersten, Holger  
Zusammenfassung
In der vorliegenden Arbeit geht es um die Erstellung eines Modells der Schichtabscheidung für Hexamethyldisiloxan basierte Plasmapolymere. Hierzu wurden umfangreiche Untersuchungen des Plasmaprozesses durchgeführt. Hierzu zählt sowohl eine elektrotechnische Untersuchung der verwendeten Niederdruckplasmakammer, als auch die Messung der Plasmadichte sowie des Plasmapotentials. Weiterhin wurden die abgeschiedenen Beschichtungen hinsichtlich ihrer chemischen Zusammensetzung sowie einiger physikalischer und technischer Eigenschaften untersucht.
Schlagwörter
Plasmapolymer

; 

HMDSO

; 

Schichtbildung

; 

Plasmaparameter

; 

Plasmasonde
Institution
Universität Bremen  
Fachbereich
Fachbereich 02: Biologie/Chemie (FB 02)  
Dokumenttyp
Dissertation
Lizenz
https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
Sprache
Deutsch
Dateien
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Vorschaubild
Name

Promotionsarbeit_Thorben Brenner_SUUB_pdfA_1b.pdf

Description
Dissertation Thorben Brenner 2022
Size

33.53 MB

Format

Adobe PDF

Checksum

(MD5):aac4e0d6f9c788ee6d24152ded540c43

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